Filteri K&F UV Nano-X MRC CONCEPT është projektuar posaçërisht për kamerat FujiFilm X100, X100S, X100V, X100F dhe X100VI, duke mbrojtur lentën nga pluhuri, gërvishtjet dhe gjurmët e gishtërinjve. Veshja nano me shumë shtresa (MRC) ndihmon në uljen e reflektimeve dhe rrit kthjelltësinë e imazhit, veçanërisht në dritë të fortë. Ky filter ruan ngjyrat natyrale dhe nuk ndikon në ekspozim, prandaj mund të mbahet vazhdimisht në lente si mbrojtje shtesë. Dizajni i hollë përshtatet mirë me trupin kompakt të serisë X100 pa shtuar peshë apo volum të tepërt. Ideale për përdoruesit që duan kombinim të mbrojtjes praktike me cilësi të pastër optike.